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    半導(dǎo)體芯片清洗超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
    新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥16MΩ.CM）(最新工藝)
3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥17MΩ.CM）(最新工藝)
半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備應(yīng)用場(chǎng)合：
    ☆電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗 ☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
    ☆顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水
    ☆ 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水
    ☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液
    ☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
    ☆ 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
    ☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路
    ☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
    ☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)
    ☆半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗
    ☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料
    ☆實(shí)驗(yàn)室和中試車間
    ☆汽車、家電表面拋光處理
    ☆光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品